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濾膜中鎘質(zhì)量控制樣品_
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濾膜中鎘質(zhì)量控制樣品

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濾膜中鎘質(zhì)量控制樣品介紹:

濾膜中鎘質(zhì)量控制樣品


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濾膜中鎘質(zhì)量控制樣品相關(guān)標準解讀
HJ 776-2015《環(huán)境空氣 顆粒物中金屬元素的濾膜采樣-再懸浮法》
適用范圍 適用于環(huán)境空氣顆粒物中鎘等金屬元素的濾膜采樣質(zhì)量控制,涵蓋采樣、運輸、保存及實驗室分析全流程。
關(guān)聯(lián)要求
濾膜類型 石英或特氟龍濾膜(直徑90 mm,孔徑≤0.45 μm)
采樣流量 16.7 L/min±10%,單次采樣時間≥24小時
空白控制 每批次至少2個現(xiàn)場空白
質(zhì)控指標 技術(shù)要求
平行樣偏差 ≤15%(鎘濃度>3倍檢出限時)
加標回收率 80%-120%
方法檢出限 0.0014 μg/濾膜(按144 m3采樣體積計)
《固定污染源廢氣 鎘的測定 火焰原子吸收分光光度法》
適用范圍 針對固定污染源廢氣中鎘的濾膜采集與分析,適用于玻璃纖維濾筒等過濾介質(zhì)的質(zhì)量控制。
技術(shù)參數(shù)
采樣流速 0.5-2.0 L/min(等速采樣)
濾膜預(yù)處理 500℃馬弗爐灼燒1小時后恒重處理
質(zhì)控頻率 每10個樣品需帶1個過程空白
實施要點說明
? 濾膜選擇 石英濾膜適用于>600℃處理場景,特氟龍濾膜耐酸性更優(yōu)
? 空白控制 運輸空白需與樣品同包裝運輸,儲存空白需在相同環(huán)境中保存
? 數(shù)據(jù)處理 需對濾膜本底值進行校正(本底值應(yīng)<方法檢出限的50%)

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