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離子色譜儀/IC/工作電極打磨布/替代_
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離子色譜儀/IC/工作電極打磨布/替代

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工作電極打磨布介紹:

工作電極打磨布


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國家標(biāo)準(zhǔn):金屬材料表面處理質(zhì)量要求(GB/T 30067-2013)
標(biāo)準(zhǔn)名稱及標(biāo)準(zhǔn)號(hào) GB/T 30067-2013《金屬材料表面處理質(zhì)量要求》
適用范圍 適用于金屬材料表面處理(包括打磨、拋光等)的質(zhì)量控制,明確電極表面處理的技術(shù)規(guī)范。
核心檢測(cè)方法 通過目視檢查、粗糙度儀測(cè)量及顯微鏡觀察評(píng)估表面平整度與光潔度。
檢出限與定量限 表面粗糙度Ra值檢測(cè)下限為0.01μm,定量范圍為0.01-10μm。
質(zhì)控樣品要求 需使用標(biāo)準(zhǔn)粗糙度對(duì)比樣塊(Ra值標(biāo)定范圍為0.1-1.6μm)進(jìn)行設(shè)備校準(zhǔn)。
關(guān)鍵實(shí)驗(yàn)步驟 1. 打磨布選擇(材質(zhì)、粒度);2. 打磨方向一致性控制;3. 表面清潔處理。
特別說明 禁止使用含硅或油脂的打磨材料,防止電極表面污染。
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn):電化學(xué)檢測(cè)用電極制備技術(shù)規(guī)范(HG/T 4865-2015)
標(biāo)準(zhǔn)名稱及標(biāo)準(zhǔn)號(hào) HG/T 4865-2015《電化學(xué)檢測(cè)用電極制備技術(shù)規(guī)范》
適用范圍 涵蓋工作電極的物理處理(打磨、拋光)及化學(xué)活化工藝要求。
核心檢測(cè)方法 通過循環(huán)伏安法驗(yàn)證電極表面活性,要求氧化還原峰電位差≤80mV。
檢出限與定量限 電極有效表面積偏差需控制在±5%以內(nèi)。
質(zhì)控樣品要求 使用鉑片電極作為參比電極,測(cè)試鐵氰化鉀體系的響應(yīng)電流穩(wěn)定性。
關(guān)鍵實(shí)驗(yàn)步驟 1. 逐級(jí)打磨(從粗到細(xì));2. 超聲波清洗;3. 氮?dú)獯蹈伞?/td>
特別說明 打磨后需在24小時(shí)內(nèi)完成檢測(cè),避免表面氧化影響結(jié)果。
國家標(biāo)準(zhǔn):實(shí)驗(yàn)室常規(guī)儀器清潔規(guī)程()
標(biāo)準(zhǔn)名稱及標(biāo)準(zhǔn)號(hào) GB/T 27401-2008《實(shí)驗(yàn)室常規(guī)儀器清潔規(guī)程》
適用范圍 包含電極類實(shí)驗(yàn)器具的清潔與維護(hù)操作規(guī)范。
核心檢測(cè)方法 通過電導(dǎo)率測(cè)定驗(yàn)證清潔度,殘留物電導(dǎo)率需<2μS/cm。
檢出限與定量限 可檢測(cè)微粒殘留量≥0.5μm。
質(zhì)控樣品要求 使用超純水空白樣品進(jìn)行清潔度驗(yàn)證。
關(guān)鍵實(shí)驗(yàn)步驟 1. 專用打磨布單次使用;2. 清潔后干燥溫度控制(60±5℃)。
特別說明 禁止不同材質(zhì)電極共用同一打磨工具,防止交叉污染。

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