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GB/T 14849.4-2017《工業(yè)硅化學分析方法 第4部分:雜質(zhì)元素含量的測定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》

適用范圍: 適用于工業(yè)硅中銅,、鐵,、鈣、鋁等16種雜質(zhì)元素的測定,,涵蓋冶金級和化學級工業(yè)硅產(chǎn)品,。
關聯(lián)內(nèi)容:
? 采用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)
? 要求樣品溶解采用氫氟酸-硝酸體系
? 標準中規(guī)定了干擾校正方法
檢出限: 0.5-10 μg/g(不同元素),,鐵元素檢出限為0.5 μg/g,,鈣元素為1.0 μg/g

HJ 501-2009《水質(zhì) 總硅的測定 分光光度法》

適用范圍: 適用于地表水、地下水,、工業(yè)廢水和生活污水中總硅的測定,,包括可溶性硅酸鹽和膠體硅。
關聯(lián)內(nèi)容:
? 提供鉬藍法和鉬黃法兩種檢測方法
? 鉬藍法適用于0.04-2.50 mg/L濃度范圍
? 鉬黃法適用于1.0-50 mg/L濃度范圍
檢出限: 鉬藍法最低檢出限0.02 mg/L,,鉬黃法最低檢出限0.5 mg/L

GB/T 12149-2017《工業(yè)循環(huán)冷卻水和鍋爐用水中硅的測定》

適用范圍: 專門針對工業(yè)水處理系統(tǒng)中硅含量的監(jiān)測,,包括火力發(fā)電廠、化工廠等工業(yè)用水,。
關聯(lián)內(nèi)容:
? 規(guī)定分光光度法測定可溶性二氧化硅
? 包含硅鉬藍法和硅鉬黃法兩種方法
? 要求控制pH值在1.1-1.3范圍內(nèi)
檢出限: 硅鉬藍法最低檢出濃度0.01 mg/L(以SiO?計)

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