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硅/

NCSZ-Si-2020(6)

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GB/T 14849.4-2017《工業(yè)硅化學(xué)分析方法第4部分：雜質(zhì)元素含量的測(cè)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》

適用范圍：

適用于工業(yè)硅中銅、鐵、鈣、鋁等16種雜質(zhì)元素的測(cè)定，涵蓋冶金級(jí)和化學(xué)級(jí)工業(yè)硅產(chǎn)品。

關(guān)聯(lián)內(nèi)容：

? 采用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）

? 要求樣品溶解采用氫氟酸-硝酸體系

? 標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定了干擾校正方法

檢出限：

0.5-10 μg/g（不同元素），鐵元素檢出限為0.5 μg/g，鈣元素為1.0 μg/g